C17200高鍍銅合金 時效

C17200高鍍銅合金是一種典型的析出強化型銅合金，具有高強度、高彈性、耐蝕性、耐磨性、抗應力松弛性、抗疲勞性等諸多優良性能，被廣泛地應用于電子電器、航天航空和機械制造等領域。

在時效過程中,C17200合金在320 ℃下不同時效時間的X射線衍射峰的寬化和峰位的偏移分別是由晶格畸變和基體中溶質原子析出引起的。圖1所示為C17200合金在320℃下不同時效時間的XRD譜。從圖1可以看出，合金經過1 h時效后，合金中的主衍射峰峰形發生比較明顯的寬化、峰位也往低角度偏移;時效時間為4 h 時，峰形開始銳化，峰位的變化逐漸減小;隨著時效至8 h時，合金除了繼續脫溶出溶質原子外，還會有y相的析出和y'相向y相的轉變，從而降低晶格畸變，使得主峰的峰形變得銳化;時效時間為16h時，峰位的變化趨于穩定。

1) C17200合金在320℃時效1 h時，在(200)主峰的左側出現較明顯的低角度邊帶峰，合金發生調幅分解，并沿著基體的(100)面上形成圓盤狀結構GP區。

2) C17200合金在320 ℃下時效,合金存在兩種析出方式:晶界不連續析出和晶內連續析出，且連續析出序列為:α過飽和固溶體→GP區→y一y。

3)合金發生調幅分解和y'相析出是C17200合金在時效過程中硬度升高并達到峰值的主要原因。